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背激光微处理设备

LR-754R

背激光微处理设备

应用领域:

应用于TOPCon电池背面poly层上的微处理工艺技术,通过减薄或去除poly形成finger结构以降低长波长的光寄生吸收,提升蓝光响应,提高短路电流,光电转换效率增益在0.15%。 


产品特点

  • 01
    成熟配套工艺,提效稳定可靠。

基本参数

项目技术指标

基本功能

全自动背激光微处理设备,双轨4头,离线可对接AGV

激光器

自研绿光皮秒激光器,保固1年,年衰减<8%

光斑大小

标配400*100um矩形平顶匀化光斑,尺寸可选定制

加工电池尺寸18Xmm×18Xmm-230mm×230mm (兼容矩形片)
机台产能

9000 uph /200线@182mm

加工方式高精度高速振镜扫描
碎片率≤0.02%
效率增益

0.15%

图形精度Pt精度≤±15μm,线间距精度≤±10μm
料片检测前检工业相机,≥1000万像素;后检可选配
除尘及过滤效率除尘效率>95%,粉尘过滤效率>99%
上料方式两侧/同侧上下料可选
控制系统PLC+工控机
交互界面LCD显示、触摸操作 在线监控、权限管理等
MES具备MES 信息化接口