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背激光微处理设备

LR-754R

背激光微处理设备

应用领域:

应用于TOPCon电池背面poly层上的微处理工艺技术包含激光诱导改质和激光诱导非晶化两种工艺,可改善电池背面的接触性能以及降低长波长的光寄生吸收,提升光电转换效率,增益在0.1~0.2%。

产品特点

  • 01
    全新光路传输系统设计,可靠性高稳定性高;
  • 02
    具备改质和非晶化工艺,多维度提效选择。

基本参数

项目技术指标

激光诱导改质激光诱导非晶化
激光器定制激光器,保固1年,年衰减<3%
光斑大小400x100μm,平顶均化光斑100±5μm,平顶匀化光斑
加工电池尺寸18Xmm×18Xmm-230mm×230mm (兼容矩形片)
机台产能9000 uph /200栅线@182mm2000 uph /180栅线@182mm
加工方式高精度高速振镜扫描
碎片率≤0.02%
效率增益0.1%~0.2%
图形精度Pt精度≤±15μm;线间距精度≤±10μm
料片检测前检工业相机,≥1000万像素;后检可选配
除尘及过滤效率除尘效率>95%,粉尘过滤效率>99%
上料方式两侧/同侧上下料可选
控制系统PLC+工控机
交互界面LCD显示、触摸操作 在线监控、权限管理等
MES具备MES 信息化接口