产品类别
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LPCVD镀膜机
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适用于半导体和光伏领域,针对于光伏领域TOPCon工艺电池;LPCVD设备可一站式完成隧穿氧化层/Poly层的制备,热氧和沉积Poly层两个工艺合二为一能够大幅提高产能;同时兼容i/d-Poly生长工艺。查看详情 -
低压硼扩散
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TOPCon已成为N型电池产品化推广的主流技术路线之一,硼扩散主要用于电池制造中正面制作PN结,属于关键制程之一。查看详情 -
低压扩散/氧化退火炉
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低压扩散是目前被认为有效提高太阳能电池转换效率一种有效途径;提高了扩散源的分子自由程,解决了扩散深度和均匀性的问题;该设备主要用于晶体硅太阳电池制造中硅片的扩散掺杂与氧化退火工艺。查看详情 -
原子层沉积镀膜设备(ALD)
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自主研发设计大产能管式ALD沉积设备,提供超薄高质量介电膜SnOx、AIOx、NiOx、ZnOx以应用于高效太阳能电池的制造,并搭配自动化提供稳定可靠的设备运行。查看详情 -
PE-POLY
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适用于半导体和光伏领域,针对于光伏领域TOPCon/BC工艺电池,PE-POLY设备在电池背面制备一层超薄的隧 穿氧化层和一层高掺杂的多晶硅薄层,超薄氧化层可以使多子电子隧穿进入多晶硅层,同时阻挡少子空穴复合,从而电子在多晶硅层横向传输被金属收集,最终极大地降低了金属接触复合电流。查看详情 -
PECVD
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在硅片表面沉积一层厚度约为75-140nm的减反射氮化硅膜(SixNy),同时利用在沉积过程中产生的活性H+离子,对硅片表面和内部进行钝化外理;在体现减少光反射的同时,也提高了硅片的少子寿命,最终直接体现在晶体硅电池的转换效率,主要用在PERC/TOPCon电池正背面氮化硅膜生长。查看详情 -
无损激光划裂机
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在高效组件生产中实现半片/多分片高精度划片工艺;在高效电池制造中同步完成半片/多分片切割与侧边缘钝化处理,通过边缘钝化层减少载流子在边缘复合从而提升电池转换效率,还能增强电池的机械强度提升耐候性;查看详情 -
激光优化接触设备
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应用于TOPCon电池栅线电极接触改善的工艺技术,位于丝网线光注入之后,通过匹配专用浆料,降低烧结峰值温度,降低对钝化层的损伤以及复合,之后加入LOC制程优化改善接触;可有效改善开路电压和填充因子,提升光电转换效率,增益在0.3%以上。查看详情 -
XBC激光开膜机
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应用于BC电池上的激光开膜工艺技术,使用超快激光搭配平顶整形光斑,为制备叉指状间隔排列的P区和N区进行掩膜的图形化加工,以实现定域掺杂功能。查看详情