https://hans-pv.com https://hans-pv.com

原子层沉积镀膜设备(ALD)

HPAT260A

原子层沉积镀膜设备(ALD)

应用领域:

自主研发设计大产能管式ALD沉积设备, 提供超薄高质量介电膜SnOx、AlOx、NiOx、ZnOx以应用于高效太阳能电池的制造, 并搭配自动化提供稳定可靠的设备运行。

产品特点

  • 01
    优化喷淋板设计及腔体内空间, 改善流埸均匀性, 达到超大产能, 并提高维护性;
  • 02
    设备零配件的更换以客户易于维修为设计重点;
  • 03
    內外腔皆有密封圈, 防止內腔常发生无法密合的情況;
  • 04
    抽拉式分区加热板设计,便于维修;
  • 05
    流场空间优化设计, 减少TMA的损耗和工艺时间。

基本参数

项目技术指标
硅片尺寸(μm)

182-230

成膜种类

Al2O3、SnOx、SiOx、NiOx 、 ZnOx

成膜厚度

1-10nm 可控

成膜均匀性

片内:≤4%,片与片:≤4%,批与批:≤3%

镀膜

双插单面镀膜

UP-TIME≥98%
碎片率 (不含自动化上下料)≤ 0.02%
反应腔内外双腔

载片方

水平腔体

送舟方式

工艺过程传输装置留在腔体

单舟装片量

182mm:3360 片/腔, 双舟

210mm:2880 片/腔, 双舟

极限真空度

≤ 0.08 Torr (~10 pa)

工艺压力0.5-10 Torr
管路气密性≤1x10-7pa.m3/s
TMA供气方式N2 携源/蒸气
泵抽速规格

≥1820m3/h+ISO160

工艺温度150-300℃+1℃
温区数量3
冷却水

2-4 kgf/cm2

设备尺寸长*宽(主体含泵, 臭氧机)

L8540*W4430*H2450 (mm)
氮气需求5N(机台提供9N纯化器)
能耗值

三相五线制 380V±5%,50Hz±1Hz