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低压扩散/氧化退火炉

HDS430-6A

低压扩散/氧化退火炉

应用领域:

低压扩散是目前被认为有效提高太阳能电池转换效率一种有效途径。低压扩散/氧化退火提高了扩散源的分子自由程,解决了扩散深度和均匀性的问题;相比常压扩散体现了一些显著的优势特性,比如高产能、高方阻、工艺重复性、低源消耗、洁净环保等。该设备主要用于晶体硅太阳电池制造中硅片的扩散掺杂与氧化退火工艺。

产品特点

  • 01
    成熟的高产能工艺,上下料系统:采用平衡对称设计,增强稳定性;
  • 02
    快速降温炉体:最新专利技术使炉体温度快速降到所需温度,降温速率提升25%以上,明显提升炉管内温度均匀性;
  • 03
    尾气高效水冷冷凝器收集,确保管道、阀门、过滤器、隔膜泵工作稳定可靠和超长的维护周期;
  • 04
    稳定的抗干扰源管路设计,减少因环境因素的扰动而造成的方阻波动;
  • 05
    架构完整,性能突出的MES/CCRM系统。

基本参数

项目技术指标
硅片尺寸(mm)182-230mm
工艺方式软着陆闭管低压扩散
反应管有效内径Ø430mm
装片量1680片/批@182mm
方阻及均匀性片内≤5%片间≤4%批间≤3%(166/182mm160Ω),片内≤6%片间≤5%批间≤4%(210/230mm160Ω)
加热温度Rt→1250°C
工作温度范围400~1100℃
温度控制6点控温,内外双模控制
升温方式自动斜率升温及快速恒温功能
降温方式最新专利技术,6温区分段控制主动降温炉体
恒温区精度及长度≤±0.5℃/2500mm(800~1100℃)/≤±1℃/2500mm(600~800℃)
单点温度稳定度≤±0.5℃/4h(880℃)
送舟方式采用SiC悬臂桨自动水平送片,舟速20 ~ 1500mm/min连续可调;定位精度≤+1mm ;
系统极限真空度20mbar
系统漏气率停泵关阀后压力升率<2 mbar/min
压力控制方式闭环全自动
工艺控制方式全自动,PLC+工控机,触摸屏操作
人机交互界面LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、 班组管理、组网功能
MES可选